Erosión de FEP Teflón y PMMA por Radiación VUV y oxígeno hipertermal o átomos de argón.

Una combinación de disperción superficial por emisión, cristales de cuarzo microbalanceados y experimentos de recesión de la superficie fue conducida para estudiar los efectos de varias combinaciones de átomos de oxígeno [en el ground state O(3P)], átomos de argón y luz ultravioleta al vacío (VUV) en etileno-propileno fluorinado copolímero (FEP) Teflón y poly(metilmetacrilato) (PMMA). Una fuente de la laser fue utilizada para crear las emisiones hipertermales que contenían O y O2 o AR. Una lámpara D2 (deuterio molecular) proporcionó una fuente de luz del tipo VUV. Los átomos de O con 4 eV de energía de translación o menos no reaccionaron con la superficie original del Teflon FEP. El O volátil con productos de reacción fue eobservado cuando los átomos de O tenían una anergía mayor a los 4.5 eV, y la señal aumentó con la energía del átomo de O.

Se observó una erosión significativa del Teflon FEP (el 20% del Kapton H) cuando fue expuesto a la emisión hipertermal O/O2 con una energía media del átomo O del 5.4 eV. El Teflón FEP y PMMA que fueron expuestos a ligeras emisiones del VUV presentaron mucho menos pérdida de masa. La disociación por colisión, que se produjo a causa de los átomos hipertermales de argón, también causó pérdida de masa que resultó similar en magnitud a la pérdida de la luz VUV. No se observaron efectos sinérgicos cuando la luz del VUV o el bombardeo de argón fue combinada con la exposición de O/O2. Para ambos, el Teflon FEP y PMMA, el producto de las erosiones causadas por la exposición simultánea a O/O2 y luz del VUV o los átomos de argón podían ser predecidas (aproximaciones) agregando la producción de la erosión causada por O/O2, actuando individualmente, a la producción de la erosión causada por la acción individual de la luz VUV o de los átomos de argón.

Full text available at the The American Chemical Society (ACS) page: http://pubs.acs.org/doi/full/10.1021/am800186m