La producción de una nueva generación de microprocesadores para PCs, laptops, servidores y otros dispositivos se ha iniciado oficialmente en la primera fábrica de 45 nanometros (nm) de alto volumen de producción de Intel Corporation en Chandler, Arizona. Llamada "Fab 32," la fábrica de USD 3 mil millones empleará la innovadora tecnología de proceso de 45nm de Intel basada en el adelanto de la compañía, al "reinventar" ciertas áreas de los transistores contenidos en sus procesadores para reducir las fugas de energía.
Los transistores de 45nm utilizan un material High-k de hafnio para los elementos dieléctrico y de metal de la compuerta y son tan pequeños que caben más de 2 millones en el punto al final de este enunciado.
Millones de estos diminutos transistores conformarán procesadores de Intel más rápidos y con un consumo más eficiente de energía, libres de plomo y de halógenos, para PCs, laptops y servidores, además de procesadores de ultra bajo consumo de energía para dispositivos móviles para internet y de electrónica de consumo, además de PCs económicas.
Está programado que el próximo 12 de noviembre lleguen al mercado los primeros procesadores de 45nm de la compañía.
"La inauguración de Fab 32 en Arizona es prueba de la inversión sostenida de Intel en nuestro activo más estratégico, la red de manufactura que cuida el ambiente más avanzada del mundo," dijo Paul Otellini, presidente y director general de Intel.
"La magia de los 45nm y nuestro nuevo diseño de transistores nos permiten ofrecer procesadores de alto desempeño y con consumo eficiente de energía a nuestros clientes en todo el espectro de los segmentos del mercado, desde los servidores más poderosos hasta diversos dispositivos móviles y todos los intermedios."
Fab 32 es la sexta fábrica de obleas de 300mm de Intel y la segunda fábrica en producir chips de 45nm. Intel produjo los primeros procesadores de 45nm en sus instalaciones de desarrollo de Oregon, llamadas D1D, en enero pasado y ahora asciende a la producción de alto volumen con la apertura de Fab 32. Hay dos fábricas de 45nm y 300mm adicionales programadas para inaugurarse el año próximo en Kiryat Gat, Israel (Fab 28) y en Rio Rancho, Nuevo México (Fab 11x).
El uso de obleas de 300mm reduce el costo de producción por chip, al tiempo de disminuir el uso total de recursos.
Con 184 mil pies cuadrados de espacio destinado a una sala higiénica, la estructura terminada de Fab 32 mide 1 millón de pies cuadrados, tan grande que podrían caber más de 17 campos de futbol dentro del edificio. Más de mi1 empleados operarán la fábrica ocupando puestos como ingenieros de procesos, automatización y producción, además de técnicos senior de manufactura.
Fab 32 se contará entre las fábricas más ecológicas de Intel, incorporando varias medidas de conservación de energía y de agua que han caracterizado el largo récord de Intel de protección al ambiente en sus operaciones.
El proceso de 45nm líder de la industria de Intel da lugar a una reducción de 15 por ciento de las emisiones que producen calentamiento global y Fab 32 hace uso del innovador programa de conservación y reutilización de agua de Intel Arizona que conserva más del 70 por ciento del agua.
Asimismo, la compañía anunció que pretende buscar la certificación de la nueva fábrica como la primera oficial de la compañía "Leadership in Energy and Environmental Design basándose en nuevos criterios que se desarrollan para instalaciones de este tipo.
LEED es un sistema de evaluación de edificios ecológicos desarrollado por el Green Building Council de Estados Unidos que aporta una serie de estándares para construcción ambientalmente sustentable y requiere varios meses de datos de operación antes de que se pueda otorgar la certificación.
La certificación demostraría que Fab 32 cumple con los más altos estándares ambientales y refleja la historia de compromiso de Intel como líder en la protección del ambiente.
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